idw – Informationsdienst Wissenschaft
Nachrichten, Termine, Experten
Nachrichten, Termine, Experten
Weniger ist häufig mehr – dieses Sprichwort wird vom Verfahren der Atomlagenabscheidung (Englisch: Atomic Layer Deposition, kurz ALD) auf die Spitze getrieben. Denn in Atomlagen abzuscheiden bedeutet, die kleinst mögliche Menge einer chemischen Beschichtung zu nutzen. Das ALD Verfahren zeichnet sich durch das selbstkontrollierte und leicht steuerbare Wachstum der verschiedensten Materialien (Kunststoffe, Halbleiter, Metalle, Glas) aus. Es ist ein mehrstufiges Verfahren, in dem die Beschichtung schrittweise aufgetragen wird. Um weitere Schichten auf der Oberfläche zu stapeln, kann der Wachstumszyklus einfach wiederholt werden.
Moderne Anwendung findet die ALD aufgrund der selbstkontrollierenden Eigenschaft zur Erzeugung von 3D Mikro- und Nanostrukturen. Aktuell werden die effizientesten Solarzellen basierend aus Silizium und die leistungsfähigsten Mikroprozessoren mit den kleinen Transistoren mit diesem Verfahren erzeugt. Weitere Anwendungen sind die Versiegelung von luftempfindlicher organischer Elektronik oder als Korrosionsschutz in der Schmuckindustrie.
Die zweitägige Baltic ALD Konferenz wird im Auditorium Maximum der Bucerius Law School von der Prof. Nielsch (Institute für Angewandte Physik der Universität Hamburg) in Zusammenarbeit mit Herrn Dr. Mato Knez (Max-Planck-Institut für Mikrostrukturphysik in Halle) ausgerichtet. Es werden 150-180 Besucher zur Konferenz aus Wissenschaft und Industrie erwartet.
Das Verfahren wurde in den 70er Jahren in Finnland entwickelt und diese internationale Konferenzen finden traditionell aufgrund der Entstehung im Ostseeraum (Baltic) statt: 2004 Tartu/ Estland, 2005 Helsinki, 2006 Oslo, 2007 Warschau, 2009 Uppsala.
Übersicht über die generelle Anwendung des ALD-Verfahrens unter:
http://www.weltderphysik.de/de/7375.php
Ansprechpartner:
Prof. Kornelius Nielsch
Institut für Angewandte Physik
Jungiusstr. 11
20355 Hamburg
Email: knielsch@physnet.uni-hamburg.de
Hinweise zur Teilnahme:
Die Tagung ist öffentlich. Programm unter:
http://www.bald2010.de/fileadmin/user_upload/Booklet_Short.pdf
Termin:
16.09.2010 - 17.09.2010
Veranstaltungsort:
Auditorium Maximum der Bucerius Law School
Jungiusstraße 6
20355 Hamburg
Hamburg
Deutschland
Zielgruppe:
Journalisten, jedermann
E-Mail-Adresse:
Relevanz:
international
Sachgebiete:
Physik / Astronomie, Werkstoffwissenschaften
Arten:
Eintrag:
14.09.2010
Absender:
Birgit Kruse
Abteilung:
Pressestelle
Veranstaltung ist kostenlos:
ja
Textsprache:
Deutsch
URL dieser Veranstaltung: http://idw-online.de/de/event32492
Sie können Suchbegriffe mit und, oder und / oder nicht verknüpfen, z. B. Philo nicht logie.
Verknüpfungen können Sie mit Klammern voneinander trennen, z. B. (Philo nicht logie) oder (Psycho und logie).
Zusammenhängende Worte werden als Wortgruppe gesucht, wenn Sie sie in Anführungsstriche setzen, z. B. „Bundesrepublik Deutschland“.
Die Erweiterte Suche können Sie auch nutzen, ohne Suchbegriffe einzugeben. Sie orientiert sich dann an den Kriterien, die Sie ausgewählt haben (z. B. nach dem Land oder dem Sachgebiet).
Haben Sie in einer Kategorie kein Kriterium ausgewählt, wird die gesamte Kategorie durchsucht (z.B. alle Sachgebiete oder alle Länder).
