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Daher werden Forschungs- und Entwicklungsarbeiten auf neue analytische Verfahren zur Untersuchung von dünnen Schichten und Nanostrukturen gerichtet. Applikations-spezifische Entwicklungen zeigen häufig, dass die Kombination mehrerer Analytik-Methoden notwendig bzw. sinnvoll ist, um die Entwicklung und Kontrolle von Prozessen in der Nanotechnologie bzw. die Sicherung von Performance und Zuverlässigkeit neuer Produkte zu gewährleisten.
Zahlreiche neue Entwicklungen auf dem Gebiet der Nanoanalytik ermöglichen die Abbildung sowie die strukturelle und chemische Charakterisierung von Strukturen im Bereich < 100 nm, bis hin zu atomaren Dimensionen. Die Eignung eines Verfahrens für Forschung und Entwicklung oder zur Prozesskontrolle in der Fertigung wird durch die Methode selbst, insbesondere ob sie zerstörend oder zerstörungsfrei ist, sowie von der erforderlichen Mess- und Analysezeit („time-to-data“) bestimmt.
Ausgehend von einer kurzen Einführung zur Nanoanalytik werden in diesem Kurs neue Verfahren zur Charakterisierung von dünnen Schichten und von Nanostrukturen erläutert. Dabei werden neue Erkenntnisse aus der Grundlagenforschung vorgestellt sowie applikationsspezifische Lösungen aufgezeigt. Die Herausforderungen an die Analytik im nm-Bereich, wie sie sich in der industriellen Fertigung zeigen, werden am Beispiel der Rasterelektronen- und Ionenstrahlmikroskopie vorgestellt. Spezielle Anwendungsbeispiele aus Mikro-, Nano- und Optoelektronik, Energietechnik und Leichtbau werden demonstriert, nanoanalytische Untersuchungen an metallischen, anorganisch-nichtmetallischen und organischen Werkstoffen besprochen. Die Referenten sind Fachleute, die sowohl aus Forschung und Lehre als auch aus der industriellen Praxis kommen.
Das Seminar wendet sich gleichermaßen an Wissenschaftler, Ingenieure und Techniker in der Industrie, die in Fertigung, Prozess- und Qualitätskontrolle sowie F&E tätig sind, aber auch an Mitarbeiter aus Forschungsinstituten und Hochschulangehörige, die sich mit neuen nanoanalytischen Verfahren vertraut machen wollen.
Das Fortbildungsseminar steht unter der fachlichen Leitung von Prof. Dr. E. Zschech,
Leiter der Hauptabteilung NanoEva am Fraunhofer-Institut für zerstörungsfreie Prüfverfahren Dresden (IZFP-D).
Weitere Informationen zur Veranstaltung und Anmeldung unter http://www.dgm.de/fortbildung/?tgnr=1284
Hinweise zur Teilnahme:
Teilnahmegebühr:
1.150,- EURO inkl. MwSt.
Teilnahmegebühr für DGM-Mitglieder:
Persönliche DGM-Mitglieder bzw. 1 Mitarbeiter eines DGM-Mitgliedsinstitutes / DGM-Mitgliedsunternehmens:
1.050,- EURO inkl. MwSt.
In der Teilnahmegebühr sind enthalten:
• Seminarunterlagen
• Pausengetränke
• Mittagessen
• ein gemeinsames Abendessen
Termin:
29.11.2012 - 30.11.2012
Veranstaltungsort:
Fraunhofer-Institut für Zerstörungsfreie Prüfverfahren Dresden (IZFP-D)
Maria-Reiche-Straße 2
01109 Dresden
Sachsen
Deutschland
Zielgruppe:
Wirtschaftsvertreter, Wissenschaftler
E-Mail-Adresse:
Relevanz:
überregional
Sachgebiete:
Chemie, Maschinenbau, Physik / Astronomie, Werkstoffwissenschaften
Arten:
Seminar / Workshop / Diskussion
Eintrag:
07.03.2012
Absender:
Marco Roßnagel
Abteilung:
Pressereferat
Veranstaltung ist kostenlos:
nein
Textsprache:
Deutsch
URL dieser Veranstaltung: http://idw-online.de/de/event38850
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