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05/02/2006 12:05

Positioniersysteme für die Elektronenstrahllithographie

Sigrid Neef Marketing und Kommunikation
Fachhochschule Jena

    Kolloquium an der FH Jena

    Morgen findet um 17.00 Uhr in der Fachhochschule Jena ein Kolloquium der IG "Elektrische Antriebe und Aktoren" zum Thema "Positioniersysteme für die Elektronenstrahllithographie" statt.

    Referent Gerhard Schubert, Dipl. Physiker von der Vistec Electron Beam GmbH, hat langjährige Erfahrungen auf den Gebieten der Positioniersysteme und der Vakuumtechnik. Er kann auf mehrere Patente verweisen.

    Die Vistec Electron Beam GmbH ist ein Jenaer Unternehmen, das Elektronenstrahl - Lithographiegeräte für die Hersteller mikroelektronischer Schaltungen auf der ganzen Welt fertigt. Die Positioniersysteme spielen in diesen Systemen eine wichtige Rolle. Sie müssen sehr hohe Genauigkeiten im Nanometerbereich erreichen. Erschwerend kommt hinzu, dass die Positioniersysteme im Vakuum arbeiten müssen und keine Magnetfelder die Abbildung mit dem Elektronenstrahl stören dürfen.

    Kolloquium "Positioniersysteme für die Elektronenstrahllithographie"
    Mittwoch, 3. Mai 2006
    17.00 Uhr
    FH Jena, Haus 5, Etage 3, Hörsaal 5

    Kontakt: Prof. Dr. Peter Dittrich
    peter.dittrich@fh-jena.de

    Sigrid Neef


    More information:

    http://www.fh-jena.de


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    Criteria of this press release:
    Electrical engineering, Energy
    regional
    Miscellaneous scientific news/publications, Transfer of Science or Research
    German


     

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