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Das LZH ist mit der Koordination eines neu gegründeten Forschungs-Netzwerks betraut worden, das anwendungsnahe Analyseverfahren für Extrem-Ultraviolett (EUV/XUV) Optiken und Komponenten entwickelt. Für die Optikcharakterisierung und folglich für die Entwicklung und die Qualitätssicherung neuer Produkte ist die Verfügbarkeit von anwendungsnahen Optikanalyseverfahren notwendig.
Das LZH ist mit der Koordination eines neu gegründeten Forschungs-Netzwerks betraut worden, das anwendungsnahe Analyseverfahren für Extrem-Ultraviolett (EUV/XUV) Optiken und Komponenten entwickelt. Für die Optikcharakterisierung und folglich für die Entwicklung und die Qualitätssicherung neuer Produkte ist die Verfügbarkeit von anwendungsnahen Optikanalyseverfahren notwendig.
Extrem-Ultraviolett (EUV) ist der Spektralbereich der Lithografie von morgen für die Herstellung von Computer-Chips. Er grenzt an den Spektralbereich der "weichen" Röntgenstrahlung (XUV). Technisch interessant ist derzeit etwa der Bereich von 10 bis 20 nm. [Zum Vergleich: Der Bereich des sichtbaren Lichtes und damit der "klassischen" Optik erstreckt sich von 380 bis 780 nm.] Die heutige Lithografie für die Halbleiter-Schaltkreise ist bereits bis 193 nm ins Kurzwellige vorgedrungen. Während man sich bei 193 nm-Strahlung noch auf Optikkomponenten aus Quarzglas stützen konnte, erfordert das EUV völlig neue Materialien und Komponenten.
Das Netzwerk setzt auf die Entwicklung praxisrelevanter Charakterisierungsverfahren. Durch die Verfügbarkeit industrienaher und kostengünstiger EUV/XUV-Spektrometer sollen vor allem kleine und mittlere Unternehmen (KMU) in die Lage versetzt werden, bei der Entwicklung neuer Produkte eigene kostengünstige Messgeräte einzusetzen, so dass auf zeitraubende externe Messkampagnen verzichtet werden kann. So soll die Durchsetzungsfähigkeit von neuen, innovativen Produktideen aus KMU und letztendlich deren Wettbewerbsfähigkeit unterstützt werden.
Der Erfolg dieses Projektes setzt auf die Know-How-Bündelung der Projektpartner, von der Strahlquellenentwicklung über die Herstellung von Strahlführungskomponenten und Detektionssystemen bis hin zur Konstruktion und Anwendung von spektralphotometrischen Messinstrumenten. In enger Kooperation zwischen drei Forschungsinstituten und acht Industriepartnern werden die Anforderungen an die Charakterisierungsverfahren in Bezug auf Probeneigenschaften, Messparameter und Präzision definiert und in praxistaugliche und kostengünstige Messgeräte umgesetzt. Den wissenschaftlichen Kernbereich des innovativen Netzes stellen - neben dem LZH - das Institut für Quantenoptik der Universität Hannover und das Laser-Laboratorium Göttingen dar.
Das Projekt wird vom Bundesministerium für Wirtschaft und Arbeit im Rahmen des Förderschwerpunktes "Innonet" unterstützt.
Kontakt:
Laser Zentrum Hannover e.V. (LZH)
Michael Botts
Hollerithallee 8
D-30419 Hannover
Tel.: +49 511 2788-151
Fax: +49 511 2788-100
E-Mail: bt@lzh.de
http://www.lzh.de
Das Laser Zentrum Hannover e.V. (LZH) ist eine durch Mittel des niedersächsischen Ministeriums für Wirtschaft, Arbeit und Verkehr unterstützte Forschungs- und Entwicklungseinrichtung auf dem Gebiet der Lasertechnik.
Prinzipskizze Spektralphotometer für den EUV/XUV-Bereich
None
Criteria of this press release:
Materials sciences, Mechanical engineering
transregional, national
Research projects
German
Prinzipskizze Spektralphotometer für den EUV/XUV-Bereich
None
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