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09/06/2000 16:04

Hakone-VII-Plasmatagung: hoher Druck, kaltes Gas, beste Anwendungen

Dr. Edmund von Pechmann Hochschulkommunikation
Ernst-Moritz-Arndt-Universität Greifswald

    Sechsmal schon gab es eine »Hakone«; die glückliche siebte Konferenz zu Wissenschaft und Technologie von Niedertemperatur-Hochdruck-Plasmen kommt vom 10. bis zum 13. 9. 2000 nach Greifswald: »International Symposium on High Pressure, Low Temperature Plasma Chemistry«. Hier werden vor allem Ergebnisse von Untersuchungen von anisothermen Plasmen unter atmosphärischem Druck (das ist für Plasmaphysiker »hoch«) und niedrigen Gastemperaturen diskutiert. Es geht um physikalische, plasmachemische und technische Grundlagen und um die rasant zunehmenden praktischen Anwendungen dieser Plasmen. Als Beispiele nennt der Konferenzorganisator Priv.-Doz. Dr. Hans-Erich Wagner die Ozonsynthese, Anwendungen in der Umwelttechnik (z.B. Schadstoffabbau und Plasmareinigung) und die Lichttechnik (Plasma Displays).

    Ozon, nötig für die Trinkwasserbehandlung oder die Instrumentensterilisierung, hat schon Werner v. Siemens 1857 durch Hochdruckentladungen hergestellt. Die Forschung, das Verfahren wirkungsvoller zu machen, geht weiter, z. B. um den Energieaufwand bei der Ozonsynthese zu minimieren. Mit jenen Gasentladungen lassen sich auch sehr effektiv umweltbelastende, organische Verbindungen zerschlagen und beseitigen und Abgase reinigen- die Anstrengungen auf diesen Gebieten sind groß und sind reif für die Hakone.

    Wegen des hohen UV-Anteils der Strahlung sind Entladungen bei atmosphärischem Druck sehr attraktiv für die Anwendung in Fluoreszenzlampen und Plasmabildschirmen. Eine intensive Erforschung dieser Phänomene und die Optimierung der technischen Prozesse wird, so Hans-Erich Wagner, in absehbarer Zeit zu viel erschwinglicheren Preisen für solch hochwertige Güter führen.

    Auch in Greifswald wird auf genannten Gebieten heftig geforscht, am Physikinstitut und am Institut für Niedertemperatur-Plasmaphysik, die die Tagung organisieren. In einem Verbundprojekt des Bundesforschungsministeriums zu Fragen der Reinigung und Veränderung von Oberflächen durch jene Plasmen arbeiten die Institute mit nahen Firmen zur Schichtabscheidung und Oberflächenbehandlung zusammen. In einem Sonderforschungsbereich (»Kinetik partiell ionisierter Plasmen«), dem einzigen im Land, geht es um physikalische, chemische Grundlagen in diesen Plasmen.

    Auf der Greifswalder Tagung treffen sich im Berufsbildungswerk, Pappelallee 2, 130 weltweit führende Wissenschaftler und Ingenieure aus 16 Ländern aus Universitäten, Forschungslaboratorien und Industrie, alle mit der Entwicklung und Anwendung moderner Hochdruck-Plasmaquellen für die angedeuteten Anwendungsfelder beschäftigt. Die erste Tagung war 1987 in Hakone, Japan, danach in Polen, Frankreich, der Slowakei, in Tschechien, Irland (1998).

    Infos gibt Priv.-Doz. Dr. Hans-Erich Wagner, Institut für Physik, Domstr. 10a, 17487 Greifswald, Tel. 03834-86-4745, Fax. 03834-86-4701, e-mail: wagner@physik.uni-greifswald.de


    More information:

    http://www.physik.uni-greifswald.de/hakone7/


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    Criteria of this press release:
    Biology, Chemistry, Mathematics, Physics / astronomy
    transregional, national
    Miscellaneous scientific news/publications, Scientific conferences
    German


     

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