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Event



01/23/2006 - 01/26/2006 | Dresden

22. European Mask and Lithography Conference 2006

Um Masken- und Lithographietechnologien für integrierte Schaltungen und Mikro-Komponenten geht es bei der 22. European Mask and Lithography Conference EMLC 2006, die die VDE/VDI-Gesellschaft Mikroelektronik, Mikro- und Feinwerktechnik (GMM) vom 23. bis 26. Januar 2006 in Dresden veranstaltet.

Experten diskutieren und präsentieren den Stand der Forschung und Entwicklung sowie der Anwendung von Maskentechnologien und den damit verbundenen Verfahren für die Lithographie, Reticles, RET (Resolution Enhancement Technologies) und Metrologie. Einige Schwerpunktthemen: Nano Imprint Lithographie (NIL), Immersion Lithography, DFM (Design for Manufacturability) und MDP (Mask Data Preparation), Produktion von Masken inklusive Reinigung und Reparatur sowie eine Poster Reception, die zur fruchtbaren Diskussion einlädt. Außerdem werden Themen wie Markt und Wirtschaftlichkeit beleuchtet und Konzepte für kommende Masken- und Lithographiegenerationen vorgestellt. Parallel zu der Veranstaltung findet eine technische Ausstellung statt. Innerhalb der Ausstellung hat jeder Aussteller die Möglichkeit, seine Firma vorzustellen.

Information on participating / attending:
Informationen: VDE/VDI Gesellschaft Mikroelektronik, Mikro -und Feinwerktechnik, Dr. Ronald Schnabel, Stresemannallee 15, 60596 Frankfurt/Main,
Telefon: 069 6308-330, Fax: 069 6312925

Date:

01/23/2006 - 01/26/2006

Event venue:

Hilton Hotel
An der Frauenkirche 5
01067 Dresden
Sachsen
Germany

Target group:

Business and commerce, Scientists and scholars

Email address:

Relevance:

transregional, national

Subject areas:

Electrical engineering, Energy

Types of events:

Entry:

11/22/2005

Sender/author:

Ursula Gluske-Tibud

Department:

Kommunikation + Public Affairs

Event is free:

no

Language of the text:

German

URL of this event: http://idw-online.de/en/event15614


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