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Nachrichten, Termine, Experten
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Experten diskutieren und präsentieren den Stand der Forschung und Entwicklung sowie der Anwendung von Maskentechnologien und den damit verbundenen Verfahren für die Lithographie, Reticles, RET (Resolution Enhancement Technologies) und Metrologie. Einige Schwerpunktthemen: Nano Imprint Lithographie (NIL), Immersion Lithography, DFM (Design for Manufacturability) und MDP (Mask Data Preparation), Produktion von Masken inklusive Reinigung und Reparatur sowie eine Poster Reception, die zur fruchtbaren Diskussion einlädt. Außerdem werden Themen wie Markt und Wirtschaftlichkeit beleuchtet und Konzepte für kommende Masken- und Lithographiegenerationen vorgestellt. Parallel zu der Veranstaltung findet eine technische Ausstellung statt. Innerhalb der Ausstellung hat jeder Aussteller die Möglichkeit, seine Firma vorzustellen.
Hinweise zur Teilnahme:
Informationen: VDE/VDI Gesellschaft Mikroelektronik, Mikro -und Feinwerktechnik, Dr. Ronald Schnabel, Stresemannallee 15, 60596 Frankfurt/Main,
Telefon: 069 6308-330, Fax: 069 6312925
Termin:
23.01.2006 - 26.01.2006
Veranstaltungsort:
Hilton Hotel
An der Frauenkirche 5
01067 Dresden
Sachsen
Deutschland
Zielgruppe:
Wirtschaftsvertreter, Wissenschaftler
E-Mail-Adresse:
Relevanz:
überregional
Sachgebiete:
Elektrotechnik, Energie
Arten:
Eintrag:
22.11.2005
Absender:
Ursula Gluske-Tibud
Abteilung:
Kommunikation + Public Affairs
Veranstaltung ist kostenlos:
nein
Textsprache:
Deutsch
URL dieser Veranstaltung: http://idw-online.de/de/event15614
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