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Nachrichten, Termine, Experten
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Namhafte Wissenschaftler und Ingenieure aus Hochschule und Industrie werden am 24.Mai 2007 in Wetzlar die Grundlagen und Anwendungen der Nanoimprint-Technologie vorstellen und die Möglichkeiten und Grenzen bezüglich der Anwendungen in den optischen Technologien aufzeigen.
Für die lithographische Herstellung von Strukturen kleiner 100 nm stehen heute teure EUV-Lithographieverfahren zur Verfügung. Die Entwicklung einer neuen Lithographie-Generation für Strukturen kleiner 100 nm beschäftigt deshalb die Industrie. Hochgenaue Massenfertigung zu möglichst geringen Kosten ist das Ziel. Die Nanoimprint-Technologie bietet die Möglichkeit, Komponenten mit optischen und photonischen Strukturen, MEMS/NEMS, kleine Displays und Verbindungshalbleiter kostengünstig zu reproduzieren.
Optence e.V., das Photonik Zentrum Hessen in Wetzlar AG und die HA Hessen Agentur GmbH laden daher zum Workshop "Nanoimprint Technology" am 24. Mai 2007 nach Wetzlar ein. Der Workshop steht unter wissenschaftlicher Leitung von Herrn Prof. Theo Tschudi, Institut für Angewandte Physik der TU Darmstadt.
Programm:
09.00 Anmeldung
09.30 Begrüßung und Eröffnung
Prof. Theo Tschudi, TU Darmstadt
09.45 Übersicht Nanoimprint-Technologie
Prof. Hella-Christin Scheer, Universität Wuppertal
10.30 Maskenschreiben, Lithographieprozesse, Formherstellung
Dr. Herbert Hein, Forschungszentrum Karlsruhe
11.00 Kaffeepause
11.30 Nanoimprint Resiste und ORMOCER®e
Dr. Marco Vogler, micro resist technology, GmbH, Berlin
12.00 Fabrication of nanoimprinted polymer photonic devices and 3D polymer structures
Prof. Clivia Sotomayor, Tyndall National Institute, Cork, Ireland
12.30 Diffraction, applications and marketing potentials
Dr. Lingli Wang, Philips Lighting, Eindhoven
13.00 Mittagspause
14.00 Effektive Medien - Herstellung und Applikation
Dr. Ernst-Bernhard Kley, Universität Jena
14.30 Nanoimprint Technologie
Lars Kock, AMO GmbH, Aachen
15.00 Kaffeepause
15.30 Replizierte Mikrooptik für Spektrometer und abbildende Systeme
Dr. Robert Brunner, Carl Zeiss AG, Jena
16.00 Bragg Gitter für Sensoranwendungen
Dr. Manfred Rothardt, IPHT, Jena
16.30 Nanoimprint Anwendungen
Paul Lindner, EV Group, Österreich
17.00 Ende der Veranstaltung, Gelegenheit für weitere persönliche Diskussionen
Die Teilnahmegebühr beträgt für Mitglieder der Kompetenznetze Optische Technologien 80 Euro, für andere Teilnehmer 110 Euro (zzgl. Mwst.)
Anmeldeschluss: 11. Mai 2007
Veranstaltungsort: Zentrum für HighTech und Kultur, Ernst-Leitz Saal,
Steinbühlstr. 15 C
35578 Wetzlar
Anmeldung sind Online möglich unter:
http://www.optence.de/workshop-nanoimprint-technoloy
Kontakt:
Optence e.V.
Daniela Reuter
reuter@optence.de
Ober-Saulheimer-Str. 6
55286 Wörrstadt
Tel.: 06732-935 122
Optence ist das Kompetenznetz Optische Technologien in Hessen /Rheinland-Pfalz.
Criteria of this press release:
Biology, Chemistry, Electrical engineering, Energy, Materials sciences, Mathematics, Mechanical engineering, Physics / astronomy
transregional, national
Miscellaneous scientific news/publications, Scientific conferences, Transfer of Science or Research
German
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