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Pressekonferenz am 15. September 1997 um 10.30 Uhr 8. Bundesdeutsche Fachtagung Plasmatechnologie
Vom 15.-17.9.1997 findet im Hotel Elbflorenz in Dresden die 8. Bundesdeutsche Fachtagung Plasmatechnologie statt. Sie wird vom Forschungszentrum Rossendorf (Institut fuer Ionenstrahlphysik und Materialforschung) gemeinsam mit den Dresdner Fraunhofer-Instituten fuer Werkstoff- und Strahltechnik und Elektronen- und Plasmatechnik organisiert. Waehrend der Tagung werden sich ca. 200 Wissenschaftler aus Universitaeten, Forschungseinrichtungen und der Industrie treffen, ueber ihre neuesten Resultate aus Forschung und Entwicklung berichten und ihre Produkte vorstellen. Sprecher aus den USA, Japan, Korea und Russland werden ueber den aktuellen Stand im Ausland informieren. Ein wesentliches Ziel der Konferenz ist es, den Dialog zwischen der anwendungsorientierten Grundlagenforschung und der industriellen Entwicklung zu foerdern.
Aus diesem Anlass laden der Vorstand der Deutschen Gesellschaft fuer Plasmatechnologie und das oertliche Organisationskomitee unmittelbar im Anschluss an die Eroeffnung der Fachtagung zu einer Pressekonferenz am
Montag, dem 15. September 1997, um 10.30 Uhr, im Hotel Elbflorenz, Konferenzetage (Rosenstrasse 36, 01067 Dresden) ein.
Programm der Eroeffnungsveranstaltung:
9.00 Uhr Begruessung durch den Vorsitzenden der Deutschen Gesellschaft fuer Plasmatechnologie, Prof. Dr. Dr. h. c. Guenter Ecker Grussadresse des Saechsischen Staatsministers fuer Wissenschaft und Kunst, Prof. Dr. Hans Joachim Meyer Grussadresse des Oberbuergermeisters der Stadt Dresden, Dr. Herbert Wagner Informationen zur Tagung, Prof. Dr. Wolfhard Moeller (Forschungszentrum Rossendorf)
9.30 Uhr Harald Eggers, Geschaeftsfuehrer des SIEMENS Microelectronics Center Dresden Mikroelektronik als Schluesseltechnologie des Informationszeitalters
Die Plasmatechnologie hat sich waehrend der vergangenen Jahrzehnte zu einer wesentlichen Querschnitts- und Schluesseltechnologie entwickelt. Sie nutzt den "vierten Aggregatzustand" der Materie: Fuehrt man einem Gas durch elektrische oder elektromagnetische Felder genuegend Energie zu, wird ein Teil der Elektronen von den Atomen des Gases getrennt, das Gas wird "ionisiert". Gleichzeitig werden die Atome angeregt und leuchten.Unter bestimmten Bedingungen koennen solche Plasmen mit sehr hoher Energiedichte fuer die kontrollierte Kernfusion eingesetzt werden. Plasmen im Bereich der Plasmatechnologie sind eher "mild" und in vielen Bereichen moderner Technik unverzichtbar. Die wichtigsten Felder sind die Lichttechnik, die Oberflaechentechnik mit einem weiten Spektrum verschiedener Prozesse wie Haertung, Reinigung und chemische Aktivierung oder Passivierung, die Beschichtungstechnik fuer mechanische und optische Anwendungen (u.a. in der Medizintechnik), die Umwelttechnik (Abgasreinigung), die Photovoltaik und die Mikroelektronik.
Die Vergabe der Tagung an die beteiligten Institute stellt eine Anerkennung ihres hohen Leistungsstandes in mehreren Feldern der Plasmatechnologie dar. Sie betreiben internationale Spitzenforschung insbesondere im Bereich der Oberflaechentechnik. Anlagen- und Verfahrensentwicklungen sind ebenfalls weit ueber Grenzen Deutschlands bekannt. Darueber hinaus traegt die Vergabe der Tagung nach Dresden der sprunghaften Entwicklung der Mikroelektronikindustrie in Dresden Rechnung. Entsprechend werden Plasmaprozesse, die zum Aetzen und Abscheiden von Mikrostrukturen angewendet werden, im Mittelpunkt der diesjaehrigen Fachtagung Plasmatechnologie stehen.
Man darf hoffen, dass die Tagung auch die Entwicklung industrieller Unternehmen in Dresden und in Sachsen foerdert, die sich den hohen Kenntnisstand zu Plasmaverfahren, der sich traditionell und aktuell hier findet, zunutze machen koennen.
Criteria of this press release:
Materials sciences, Mathematics, Physics / astronomy
transregional, national
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German
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