Die APCVD (Atmospheric Pressure Plasma Chemical Vapour Deposition) erlaubt aufgrund ihres moderaten thermischen Einflusses auch die Behandlung von temperaturempfindlichen Materialien. Dabei können Oberflächen aktiviert, bereits vorhandene Beschichtungen entfernt oder neue Beschichtungen im Nanometermaßstab aufgebracht werden. Letztere können sich durch verschiedene Wirkungen auszeichnen, was von antibakteriellen Effekten bis hin zur verbesserten Kaschierbarkeit ein weitreichendes Eigenschaftsportfolio offenbart.
Vor diesem Hintergrund soll der Workshop einen Einblick in die Technologie bieten, aktuell laufende Entwicklungsaufgaben vorstellen und Anregungen für mögliche industrielle Applikationen liefern.
Anmeldung: per Email an weiterbildung@innovent-jena.de
Programm
I. THEORIE
Einführung in die Plasmatechnik
Physikalische Grundlagen, Erzeugung von Plasmen, Plasmadiagnostik
Plasma und Oberflächentechnik
Wechselwirkung von Plasmen mit Oberflächen, Physikalische und chemische Gasphasenabschaltung, Niederdruckapplikationen
Atmosphärische Plasmen im Überblick
Differenzierung von Niederdruckplasmen, Atmosphärische Plasmen als Werkzeug zur Oberflächenmodifikation
Atmosphärische Plasmen als Beschichtungsmethode unter Normaldruckbedingungen
Prekursoren und Dosiereinheiten, Tools zur Plasma-Überwachung, Anwendungsbeispiele
Atmosphärische Plasmen und Plasmamedizin
Wechselwirkung Plasma und Zelle
Antimikrobiell wirkende Schichten (Schwerpunktthema)
Ausgewählte Forschungsergebnisse
Anforderungen an Geräteentwicklungen
Atmosphärische Plasmen als ein Bestandteil von Kombinationstechnologien
Verfahrenskombinationen mit nasschemischen Beschichtungsverfahren
Oberflächenanalytik
Oberflächentopographie, taktile Methoden
Schichtzusammensetzung, -haftung, -beständigkeit
Benetzbarkeit, Oberflächenenergie
II. PRAXIS
Oberflächenreinigung mittels Plasma u.a.
Ortsaufgelöste Benetzbarmachung einer Kunststoffplatte
Anwendung von Testtinte und deren Grenzen
Atmosphärische Plasmen als Werkzeug zur Beschichtung
Interferenzeffekte auf Edelstahlsubstraten
SiOx- Dünnschichtabscheidung mittels Plasmadüse und taktile Vermessung der Schicht
III. HAUSRUNDGANG
Dünnschicht-Labor und Oberflächenanalytik-Labor, AFM, SEM, Gesprächsmöglichkeiten
Hinweise zur Teilnahme:
Kursablauf
Erster Tag 10:00 bis 17:30 Uhr
Zweiter Tag 08:00 bis 15:00 Uhr
(Änderungen vorbehalten)
Veranstaltungsort
INNOVENT e.V. Technologieentwicklung
Prüssingstraße 27B
07745 Jena
Anfahrt Innovent
Teilnahmegebühr
inkl. Skript und Teilnahmezertifikat: 990,00 EUR (zzgl. 7% USt.)
Jeder weitere Teilnehmer einer Einrichtung erhält einen Nachlass von 10 Prozent auf die Kursgebühr.
Verpflegungsaufwand (Pausenversorgung und Stammtisch am ersten Abend): 100,00 EUR zuzüglich 19% USt
Teilnehmer
10-18
Termin und Anmeldung
Bei Interesse an einer Teilnahme benutzen Sie bitte das Anmeldeformular oder kontaktieren Sie uns per Email.
Übernachtung
Gern empfehlen wir Ihnen geeignete Übernachtungsmöglichkeiten in der Nähe unseres Institutes.
MAXX Hotel Jena
(fussläufig zu INNOVENT ca. 15 min)
Stauffenbergstraße 59
07747 Jena
Jembo Park Jena
(fussläufig zu INNOVENT 15 min)
Rudolstädter Str. 93
07745 Jena
Best Western Hotel
Rudolstädter Str. 82
07745 Jena
Veranstalter
INNOVENT e.V. Verein zur Förderung von Innovationen durch Forschung, Entwicklung und Technologietransfer e.V.
Weitere Informationen und Rückfragen richten Sie bitte an:
Dr. Andreas Pfuch
Telefon: +49 (0)3641 2825-10
E-Mail: weiterbildung@innovent-jena.de
Termin:
07.02.2023 ab 10:00 - 08.02.2023 15:00
Anmeldeschluss:
25.01.2023
Veranstaltungsort:
INNOVENT e.V.
Prüssingstr. 27b
07745 Jena
Thüringen
Deutschland
Zielgruppe:
Wirtschaftsvertreter, Wissenschaftler
E-Mail-Adresse:
Relevanz:
überregional
Sachgebiete:
Werkstoffwissenschaften
Arten:
Seminar / Workshop / Diskussion
Eintrag:
09.12.2022
Absender:
Susanne Frank
Abteilung:
Forschungsmarketing
Veranstaltung ist kostenlos:
nein
Textsprache:
Deutsch
URL dieser Veranstaltung: http://idw-online.de/de/event73244
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