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Am 25. April 2006 wurde ein neues Mikroelektronik Reinraumlabor an die TU Dresden übergeben. Der Neubau ermöglicht Forschern der TUD die Entwicklung von modernsten Fertigungstechnologien für die Chipherstellung und die Mikrostrukturierung von Siliziumbauteilen.
"Die enge Zusammenarbeit mit den lokalen Betrieben der Halbleiterindustrie ist für die Ausrichtung unserer Forschung, aber auch für die Qualität der Ausbildung unserer Studenten von äußerster Wichtigkeit. Wir benötigen daher eine Reinraumumgebung, die an den Standard der Industrie angepasst ist", sagt Prof. Dr. Johann W. Bartha, der Direktor des Instituts für Halbleiter- und Mikrosystemtechnik der TUD, dem das neue Laborgebäude organisatorisch zugeordnet ist. Diesen Ansprüchen genügt der Neubau in der Tat.
Maximal 5000 Kubikmeter genau temperierte und exakt befeuchtete Luft pro Minute werden durch die Deckenfilter in den Arbeitsbereich geleitet, damit die Sauberkeit der Siliziumscheiben auch bei komplexen Bearbeitungsfolgen gewährleistet bleibt. Im sogenannten Fotobereich des Labors, in dem kleinste Strukturen in einen Fotolack übertragen werden, bekam sogar der Fußboden ein eigenes, von dem übrigen Baukörper getrenntes Pfahlfundament, um störende Gebäudeschwingungen von den erschütterungsempfindlichen Prozessen fern zu halten.
"Die hervorragende Ausbildung an der TU Dresden ist sicher immer wieder ein großer Standortvorteil bei der Ansiedlung neuer Mikroelektronikbetriebe in Dresden gewesen. Wir möchten, dass dies so bleibt", sagt Prof. Hermann Kokenge, Rektor der TUD. "Nachdem der Ausbau von außeruniversitären Einrichtungen in Dresden in der Vergangenheit stark gefördert wurde, freue ich mich darüber, dass die TU Dresden nunmehr mit dem neuen Reinraumlabor an diese Entwicklung anknüpfen kann." Die TU Dresden greift damit einen Trend auf, der sich schon mit der gemeinsamen Einrichtung des "Center Nanoelektronische Technologien" (CNT) von Infineon, AMD und der Fraunhofer-Gesellschaft abzeichnete. In Dresden soll nicht nur Mikroelektronik produziert werden, sondern es sollen auch neue Technologien und Produkte entwickelt werden.
Das Institut für Halbleiter- und Mikrosystemtechnik hat sich dieser Aufgabe gestellt und mit der sogenannten "Atomlagenabscheidung" (ALD) eine neue Forschungsrichtung in Angriff genommen, die in der Industrie auf großes Interesse stößt. "Hier arbeiten Wissenschaft und Wirtschaft Hand in Hand", freut sich Prof. Bartha, der über ein gemeinschaftlich vom Sächsischen Ministerium für Wirtschaft und Arbeit und vom Sächsischen Ministerium für Wissenschaft und Kultur gefördertes Projekt eine Forschungsanlage zur Atomlagenbeschichtung auf 300 mm Wafern in Betrieb nehmen kann.
Damit dieses Projekt starten konnte, an dem sowohl ein regionaler Anlagen- als auch Chiphersteller beteiligt sind, war die Verfügbarkeit des neuen Reinraums notwendig. Ein gutes Beispiel dafür, dass für eine innovative Technologie die ganze Wertschöpfungskette von den wissenschaftlichen Grundlagen, über die Anlagentechnik, bis zur Anwendung beim Halbleiterhersteller in Sachsen abgedeckt werden kann. Die TU Dresden liefert damit einen weiteren bedeutenden Meilenstein beim Ausbau des vielzitierten "Silicon Saxony".
Informationen für Journalisten: Prof. Dr. Johann W. Bartha, Tel. 0351 463-35292, E-Mail:bartha@ihm.et.tu-dresden.de
Merkmale dieser Pressemitteilung:
Elektrotechnik, Energie
überregional
Organisatorisches
Deutsch
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