Max-Planck-Wissenschaftlerin präsentiert neues Herstellungsverfahren für Nanokristalle aus Silizium für Optoelektronik und Speichertechnik
Ein Verfahren zur maßgeschneiderten Herstellung von Silizium-Nanokristallen auf 4-Zoll-Wafern haben Wissenschaftler um Dr. Margit Zacharias am Max-Planck-Institut für Mikrostrukturphysik, Halle/Saale, entwickelt und zum Patent angemeldet. Nach einem gängigen Verfahren der Silizium-Technologie wird hierbei zunächst eine thermisch nicht stabile Siliziumoxidverbindung als ultra-dünne Schicht (nur ein bis fünf Nanometer) auf einem Träger abgeschieden. Eine anschließende thermische Behandlung führt in dieser Schicht zu einer Phasenseparation, bei der sich in Abhängigkeit von der Temperatur Siliziumcluster und -nanokristalle bilden, die in eine Matrix aus thermisch stabilem Siliziumdioxid eingebettet sind. Die Größe der Nanokristalle wird über die Dicke der aufgedampften Schicht gesteuert. Auf diese Weise lassen sich hochdichte Felder von Siliziumclustern oder -nanokristallen sehr kostengünstig herstellen (Solid State Phenomena 94 (2003) 95-104). Inzwischen vermeldeten die Firmen Motorola mit dem ersten 4-Megabit-Speicher und STMicroelektronics bei Licht-emittierenden Dioden (LED) technologische Durchbrüche auf der Basis von Silizium-Nanokristallen.
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Merkmale dieser Pressemitteilung:
Biologie, Chemie, Elektrotechnik, Energie, Informationstechnik, Mathematik, Physik / Astronomie, Wirtschaft
überregional
Forschungsergebnisse, Wissenschaftliche Publikationen
Deutsch
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