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Nachrichten, Termine, Experten
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Am Dienstag, den 18. Mai, findet um 15.30 Uhr
das 333. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium statt.
Am Dienstag, den 18. Mai, findet um 15.30 Uhr im Konferenzraum der Carl Zeiss Jena GmbH (Carl-Zeiss-Promenade 10)
das 333. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium statt.
Das Kolloquium ist eine Gemeinschaftsveranstaltung der Carl Zeiss Jena GmbH, der Fachhochschule Jena, der Friedrich-Schiller-Universität, des Fraunhofer Instituts,
des Instituts für Physikalische Hochtechologie Jena und der TU Ilmenau. Unterstützung gewährt auch die DGaO.
Dr. Uwe Stamm (Jena, Göttingen) spricht über "Extrem Ultraviolett (EUV) Lichtquellen für die Halbleiter-Lithographie".
In seinem Vortrag über die Zukunftstechnologien an den Grenzen der Physik widmet sich Dr. Stamm u.a. dem Entwicklungsstand und den Anforderungen der EUV Lithographie im Allgemeinen und der EUV Lichtquellen im Besonderen.
Dabei wird der Wissenschaftler die erfolgversprechendsten Techniken zur EUV-Erzeugung - gasentladungsangeregte und laserangeregte Plasmen - sowie experimentelle Ergebnisse und Erfahrungen zur Diskussion stellen.
Rückfragen an: Herrn Prof. Dr. Kowarschik
kowar@pinet.uni-jena.de
Merkmale dieser Pressemitteilung:
Elektrotechnik, Energie, Mathematik, Physik / Astronomie, Wirtschaft
regional
Buntes aus der Wissenschaft, Forschungsprojekte, Wissenschaftliche Tagungen
Deutsch
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