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Der Fachbereich Physikalische Technik hat auf seiner Sitzung am 1. Februar 2001 den Beschluss gefasst, Torsten Harzendorf für seine Diplomarbeit:
"Untersuchungen zu den Herstellungsmöglichkeiten glatter Höhenprofile für mikrooptische Bauelemente"
mit dem Fachbereichspreis auszuzeichnen.
Torsten Harzendorf hat seine Diplomarbeit an der Friedrich-Schiller-Universität Jena, am Institut für Angewandte Physik angefertigt. In diesem Institut werden u.a. das Potential mikrostrukturierter Optik untersucht und dazu entsprechende physikalische Herstellungstechnologien entwickelt. Ein Schwerpunkt sind Technologien zur Herstellung glatter Oberflächen für refraktive oder diffraktive Elemente. Beispielsweise lassen sich die beim thermisches Schmelzen oder beim Reflow von Photoresiststrukturen erzeugten sphärischen und zylindrischen Minimalflächen zur Herstellung von Mikrolinsen nutzen. Kompliziertere Oberflächenprofile, sogenannte Freiformen, kann man effektiv mit der Kontakt-Photolithographie unter Verwendung von Grautonmasken erzeugen. Diese Analoglithographie ist relativ jung, technologisch nicht ausgereift und noch unbefriedigend kommerzialisiert. Problematisch ist auch der Mangel an konkurrierenden Anbietern von Materialien.
Torsten Harzendorf hat sich mit seiner Diplomarbeit den kritischen Punkten der Herstellung glatter Höhenprofile zugewendet. Hervorzuheben ist ein neuer Ansatz für die Grautonmaske selbst. Die lokale Steuerung der UV-Transmission der Maske wird dabei durch die lokale Dickenvariation eines mit stabilen UV-Absorbern gefüllten Elektronenresists realisiert. In enger Zusammenarbeit mit der chemischen Fakultät wurden verschiedenste UV-Absorber bezüglich ihrer spektralen Eignung, ihrer UV-Stabilität und ihrer Wechselwirkung mit dem Elektronenresist im lithographischen Schreibprozeß untersucht.
Die erreichten Vorteile einer solchen Grautonmaske im Vergleich zur bisher einzigen existierenden, auf HEBS Glas basierenden Grautonmaske liegen im 10-fach niedrigeren Preis des Ausgangsmaterials, der 5-fach erhöhten Schreibgeschwindigkeit der Elektronenstrahllithographie und der 3-fach verbesserten Auflösung. Trotz der noch nicht beseitigten Nachteile wie der mechanische Empfindlichkeit der Maske und das bei Proximity-Belichtung störende Phasenprofil konnte die prinzipielle Tauglichkeit des Verfahrens gezeigt und veröffentlicht werden. Um Weiterentwicklungen u.a. dieser Methode entgegenzuwirken veränderte der einzige Hersteller von HEBS Glas und Grautonmasken, die Firma Canyon Materials Inc. (USA), ihre restriktive Marktstrategie.
Sehr wertvoll für die Herstellung mikrooptischer Bauelemente sind aber auch die in der Arbeit gewonnenen Erkenntnisse zur Reflow Technologie, der Oberflächenrauhigkeit und des Oberflächenglättens.
Sowohl während der Diplomarbeitsphase als auch beim Abschluss der schriftlichen Arbeit und der Verteidigung konnte Torsten Harzendorf durch sein Wissen, seine Lernbereitschaft sowie seine Selbstständigkeit überzeugen.
Nachfragen richten Sie bitte an den Dekan des Fachbereiches, Professor Dr. Harald Bergner, Telefon 0 36 41 / 205-350.
Pressetermin
Sehr geehrte Damen und Herren,
wir laden Sie hiermit zur Übergabe des Fachbereichspreises des Fachbereiches Physikalische Technik der Fachhochschule Jena ein.
Diese findet am Donnerstag, 15. März, um 15.15 Uhr im Dekanat des Fachbereiches, Halle 4, statt.
Merkmale dieser Pressemitteilung:
Elektrotechnik, Energie, Maschinenbau
überregional
Forschungsergebnisse, Personalia
Deutsch
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