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03.06.2016 10:33

Neues Verfahren für passgenaue Entspiegelungsschichten

Annett Arnold Unternehmenskommunikation
Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP

    Das Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP, als eines der führenden Forschungs- und Entwicklungspartner zur Entwicklung von Oberflächentechnologien und organischer Elektronik, stellt auf der ICCG 2016, vom 13. – 16. Juni 2016, in Braunschweig, Stand Nr. B2, die neuesten Ergebnisse zu Antireflex-Beschichtungen vor.

    Ob Brille, Windschutzscheiben, Schaufenster, Displays oder Solarzellen – so ziemlich jeder nutzt Produkte mit Antireflexbeschichtungen, ohne dass es ihm bewusst ist. Solche entspiegelnden Schichten sorgen einerseits für einen klaren Blick, andererseits kann in so beschichteten Solarzellen das Sonnenlicht nahezu komplett eingefangen werden, da es kaum noch an der Oberfläche reflektiert wird.

    Diese Schichten, die für die Anwender kaum sichtbar sind, fordern Wissenschaftler auf ganz unterschiedliche Art, werden sie doch auf verschiedene Trägermaterialien, wie starrem oder flexiblem Glas und auf Kunststofffolien, aufgebracht. Das Hauptaugenmerk bei der Prozessierung der Substrate liegt bei einer ökonomisch sinnvollen Gestaltung der Beschichtungsprozesse und der genauen Anpassung der Schichteigenschaften an den jeweiligen Verwendungszweck.

    Die Forscher am Fraunhofer FEP haben jetzt eine neuartige Technologie für die Erzeugung von Entspiegelungsschichten auf Glas erprobt. Dabei wird mittels eines Co-Sputter-Verfahrens zunächst eine Gradientenschicht, bestehend aus Siliziumdioxid (SiO2) und einer weiteren Hilfskomponente auf Glas abgeschieden. Anschließend wird in einem Ätzschritt die Hilfskomponente entfernt. Das Resultat bildet eine zurückbleibende raue Siliziumdioxidschicht. Infolge der kontinuierlichen Anpassung der optischen Eigenschaften von Luft zu Glas wird eine Entspiegelung der Glasoberfläche erzielt.

    Einen ähnlichen Effekt bietet der am Fraunhofer FEP verfügbare PolAR-Prozess zur Entspiegelung von Kunststoffplatten oder -folien. Dieses Verfahren wurde ursprünglich gemeinsam mit dem Fraunhofer IOF und Industriepartnern entwickelt. Hierbei werden mittels eines Plasmaätzschrittes Nanostrukturen direkt auf der Oberfläche von Polymeren erzeugt. Der so erzielte graduelle Übergang der Brechzahl von Luft zum Polymer wirkt ebenfalls entspiegelnd.

    Für eine klassische Antireflexbeschichtung werden typischerweise alternierend optisch hoch- und niedrigbrechende Schichten abgeschieden. Nachteilig hierbei ist der begrenzte Spektralbereich der Entspiegelungswirkung. Dieser lässt sich nur über ein komplexeres Interferenzschichtsystem verbreitern. Antireflexschichtsysteme basierend auf rauen Oberflächeneffekten hingegen haben keine scharfe Wellenlängenbegrenzung in ihren reflexmindernden Eigenschaften, wodurch mittels einer einzelnen Schicht bzw. einem einzelnen Plasmaätzschritt breitbandig entspiegelt werden kann. Die Schichten sind weitestgehend farbneutral.

    »Die mit dem neuen Verfahren erzielten Schichten zeichnen sich durch besonders gute mechanische Beständigkeit und ein breitbandiges Antireflexverhalten aus«, erklärt Thomas Preußner, Forscher für großflächige In-Line Prozessierung am Fraunhofer FEP.

    Mittels des Co-Sputter-Verfahrens können nicht nur Antireflexschichten entwickelt werden. Vielmehr demonstriert die Technologie die Möglichkeit, raue Schichten für weitere Anwendungsmöglichkeiten herzustellen. Sie bietet das Potenzial, die Kontaktfläche von zum Beispiel Elektroden für Batterien und Solarzellen über raue Schichten zu vergrößern und wirkungsvoller zu gestalten.

    Das umfassende Know-how der Wissenschaftler am Fraunhofer FEP und die Ausstattung mit fertigungsnahen Anlagen, ermöglichen es, passgenaue Antireflexschichten für die unterschiedlichsten Anwendungen gemeinsam mit und für den Kunden zu entwickeln.

    Fraunhofer FEP auf der ICCG 2016

    Vorträge
    Dienstag, 14. Juni
    Session 4 – Processes for Flexible Substrates
    14:50 – 15:10 Uhr, Eingeladener Vortrag
    The Road from S2S to R2R - Status, Risks and Visions for Processing Ultra-Thin Glass
    Dr. Manuela Junghähnel

    Session 4 – Processes for Flexible Substrates
    16:30 – 16:50 Uhr
    Roll-to-Roll Deposition of Silicon Nitride Permeation Barrier Coatings Using Rotatable Magnetrons
    Dr. Matthias Fahland

    Mittwoch, 15. Juni
    Session 7 – Optics, Consumer Electronics, and Communication
    15:50 – 16:10 Uhr
    Towards Tunable Thin-Film Filters with the Use of Liquid Crystals
    Dr. Hagen Bartzsch

    Poster
    P1.01
    Coatings with large surface roughness prepared by a co-sputtering method using dual rotatable magnetrons
    Autoren: T. Preußner, M. Junghähnel, U. Hartung, T. Kopte
    Fraunhofer FEP, Germany

    P4.01
    Characterization of stochastic nanostructures on ethylene tetrafluoroethylene films
    Autoren: C. Steiner, J. Fahlteich
    Fraunhofer FEP, Germany

    P4.03
    Influence of thin-film properties on the reliability of ultra-thin glass
    Autoren: J. Westphalen1,2, M. Junghähnel2, S. Weller2, G. Lorenz3, F. Naumann3
    1 TU Ilmenau, Department of Inorganic-Nonmetallic Materials, Ilmenau, Germany
    2 Fraunhofer FEP, Germany
    3 Fraunhofer IMWS, Center for Applied Microstructure Diagnostics (CAM), Germany

    P4.04
    Processing of thin-films on ultra-thin flexible glass
    Autoren: M. Junghähnel, M. Fahland, C. May, S. Mogck
    Fraunhofer FEP, Germany

    P4.05
    OLED lighting using ultra-thin flexible glass (G-Leaf ™)
    Autoren: S. Mogck1, M. Stanel1, Y. Hasegawa2, K. Mitsugi2, Y. Uno2
    1 Fraunhofer FEP, Dresden, Germany
    2 Nippon Electric Glass Co., Ltd., Japan

    Pressekontakt:

    Annett Arnold
    Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP | Phone +49 351 2586 452 | Annett.Arnold@fep.fraunhofer.de
    Winterbergstraße 28 | 01277 Dresden | Deutschland | www.fep.fraunhofer.de


    Weitere Informationen:

    http://s.fhg.de/MsQ


    Bilder

    Glas mit Antireflexbeschichtung
    Glas mit Antireflexbeschichtung
    Quelle: © Fraunhofer FEP, Fotograf: Jürgen Lösel


    Merkmale dieser Pressemitteilung:
    Journalisten, Studierende, Wirtschaftsvertreter, Wissenschaftler
    Chemie, Elektrotechnik, Gesellschaft, Physik / Astronomie
    überregional
    Forschungs- / Wissenstransfer, Forschungsergebnisse
    Deutsch


     

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