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Das Bundesministerium für Bildung, Wissenschaft, Forschung und Technologie (BMBF) hat dem Institut für Physikalische Hochtechnologie e. V. (IPHT) in Jena Forschungsmittel in Höhe von 2,7 Mio. DM für die Entwicklung eines neuen
Silicium-Solarzellentypes bewilligt. Bei dem neuen Typ werden statt des üblichen teuren Silicium-Massivmaterials dünne Siliciumfilme verwendet, die auf preiswertes Glas aufgebracht werden. Die notwendigen hochwertigen kristallinen Schichten können nur bei Temperaturen über 1400 oC hergestellt werden. Preiswertes Glas hält üblicherweise nur einer Temperatur von unter 600 oC stand. Dieses Problem wurde am IPHT durch die Entwicklung eines Verfahrens gelöst, bei dem zunächst dünne Siliciumsschichten mit amorpher
Struktur bei niedrigen Temperaturen auf Glas aufgebracht werden. Diese Schichten werden mit einem Laser so kurzzeitig erhitzt, dass sich eine kristalline Schichtstruktur herausbilden kann, das Glas aber kalt bleibt. Am IPHT wird das Verfahren der Laserkristallisation grundsätzlich beherrscht.
Bis Ende 2002 soll in dem bewilligten Forschungsprojekt die Technologie auf die Herstellung des Silicium-Schichtsystems übertragen werden, um gemeinsam mit dem Hahn-Meitner-Institut Berlin und dem Institut für Physikalische Elektronik der Universität Stuttgart erste Solarzellen dieses deutlich billigeren Typs herzustellen.
Anlage zum Aufbringen hauchdünner Siliciumschichten für einen neuen Solarzellentyp auf gewöhnlichem ...
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Am IPHT in Jena aufgebaute Anlage zur Abscheidung und laserinduzierten Kristallisation von Siliciums ...
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Merkmale dieser Pressemitteilung:
Elektrotechnik, Energie, Werkstoffwissenschaften
überregional
Forschungsprojekte
Deutsch
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