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Vom 17. bis 19. Februar treffen sich an der Universität Gesamthochschule Kassel Wissenschaftler und Industrievertreter, die am Thema Ionen-Lithografie im MEDEA-Projekt zusammenarbeiten. MEDEA (Micro-Electronics Development for European Applications) ist eine Internationale Arbeitsgruppe, in der amerikanische, europäische und japanische Wissenschaftler und Mikroprozessor-Unternehmen kooperieren. Das Finanzvolumen beträgt global 40 Millionen Dollar, den deutschen Anteil in Höhe von 30 Millionen Mark trägt das Bundesforschungsministerium aus Projektmitteln für die Forschungsförderung für die Gewerbliche Wirtschaft.
Anmerkung für die Redaktion: Wenn Sie sich zum Stand des Projektes informieren wollen, sind Sie herzlich eingeladen zu einem Pressegespräch am 18. Februar ab 13.15 Uhr, Heinrich-Plett-Straße 40; vom Haupteingang aus in den ersten Stock, dann links zu Raum 1252. Bitte geben Sie unbedingt Prof. Kassing Bescheid, wenn Sie an dem Pressetermin teilnehmen wollen.
Kassel. Im Jahr 2003 ist die Grenze, noch mehr Informationen auf immer kleineren Chips zu speichern, für Industrie und derzeitigen Forschungsstand erreicht, so die Expertenmeinung. Dann nämlich wird das bisherige Verfahren, die gewünschten Strukturen mit sichtbaren Lichtwellenlängen - der Lichtlithografie - auf die Chips zu schreiben, an ihre natürlichen Grenzen stoßen. Denn selbst die mittlerweile bis ins tiefe Ultraviolett reichenden Ultrakurz-Lichtwellen sind zu "dick", um den Anforderungen der künftigen Informationstechnologie zu genügen. Schließlich soll es in der Chipproduktion in die Richtung weitergehen, die auch jeder Laptop- oder PC- Besitzer zu schätzen weiß: Immer mehr Speicherkapazität, immer schneller, immer kleiner, immer preiswerter.
Auch wenn das Ziel bekannt ist: Über den Weg dahin zerbrechen sich die Kenner der Materie die Köpfe. Denn immerhin stehen vier denkbare Technologien auf dem Prüfstand, die jeweils mit Milliardenaufwand zu erforschen und produktionsfähig zu machen sind: Die Röntgen-Lithografie, die Deep Ultra-Violett-Lithografie, die Elektronenstrahl-Lithografie und die Ionen-Projektions-Lithografie.
Vom 17. bis 19. Februar treffen sich an der Universität Gesamthochschule Kassel Wissenschaftler und Industrievertreter, die am Thema Ionen-Lithografie im MEDEA-Projekt zusammenarbeiten. MEDEA (Micro-Electronics Development for European Applications) ist eine Internationale Arbeitsgruppe, in der amerikanische, europäische und japanische Wissenschaftler und Mikroprozessor-Unternehmen kooperieren. Das Finanzvolumen beträgt global 40 Millionen Dollar, den deutschen Anteil in Höhe von 30 Millionen Mark trägt das Bundesforschungsministerium aus Projektmitteln für die Forschungsförderung für die Gewerbliche Wirtschaft.
Prof. Dr. Rainer Kassing, Fachgebiet Technische Physik im Fachbereich Physik der GhK, ist Gastgeber und zugleich einziger deutscher Universitätsvertreter in diesem Forschungskonsortium zur Ionen-Projektionslithografie unter Leitung der Firma Siemens. Kassing, der das Institut für Mikrostrukturtechnologie und Analytik (IMA) der Kasseler Universität leitet, Vorstand des Forschungsinstituts IMO (Institut für Mikrostrukturtechnologie und Optoelektronik ) in Wetzlar und Sprecher des Graduiertenkollegs "Materialien und Komponenten der Mikrosystemtechnik" an der GhK ist, bringt in seinem Spezialgebiet physikalische und technologische Erkenntnisse zusammen. So arbeiten er und sein Team seit Jahren an der Nanostrukturforschung, also an Herstellungsverfahren sogenannter Masken, die der schwierigste Punkt bei der Herstellung von Mikrochips sind: Im Miniaturformat sind sie die Vorlagen für Schaltungsentwürfe, die - mit welchem Verfahren auch immer - belichtet werden und auf einer lichtempfindlichen Schicht auf dem Siliciumträger als Struktur erscheinen. Diese Struktur kann anschließend bearbeitet werden, zum Beispiel geätzt und dann für weitere noch feinere Strukturen weiterverarbeitet werden. Bewegte sich das bisherige Lichtlithografie-Verfahren im Bereich von rund 200 Nanometer, vergleichbar mit einem Hundertstel Haardurchmesser, geht es bei der künftigen Ionenstrahl-Lithografie um Zielzahlen von 20 Nanometern, also weniger als dem Tausendstel eines Haardurchmessers.
Die Ionen sind "schlank" genug für diese Anforderung an die weitere Miniaturisierung von Chips und deren Herstellung. Ob dieses Verfahren am Ende das Rennen um die beste Technologie gewinnt, wird sich im nächsten Jahrtausend entscheiden - und das weltweit. Denn der Herstellermarkt hat sich nicht nur längst globalisiert; auch die Forschungs- und Entwicklungskosten sind von Einzelnen allein nicht mehr aufzubringen.
An der Arbeitsgruppensitzung im Februar sind beteiligt: Fraunhofer Institut für Angewandte Optik und Präzisionsmechanik, Jena, Fraunhofer Institut für Silikontechnologie, Itzehoe/ Berlin, IMS - Ionen Mikrofabrikationssysteme, Wien, IMS - Chips, Institut für Mikroelektronik, Stuttgart, Leica Mikrosystem Lithographie, Jena, MIT Inkjet, Stockholm, Siemens, München und Erlangen, Slowakische Akademie der Wissenschaften, Bratislava, TNO, Delft und University of Wisconsin, Madison.
Annette Ulbricht-Hopf
Anmerkung für die Redaktion: Wenn Sie sich zum Stand des Projektes informieren wollen, sind Sie herzlich eingeladen zu einem Pressegespräch am 18. Februar ab 13.15 Uhr, Heinrich-Plett-Straße 40; vom Haupteingang aus in den ersten Stock, dann links zu Raum 1252. Bitte geben Sie unbedingt Prof. Kassing Bescheid, wenn Sie an dem Pressetermin teilnehmen wollen.
Kontakt und weitere Information:
Universität Gesamthochschule Kassel, Prof. Dr. Rainer Kassing, Heinrich-Plett-Straße 40, 34109 Kassel, Tel. 0561 804-4532, -4586, Fax-4136, Email: kassing@physik.uni-kassel.de
Vom 17. bis 19. Februar treffen sich an der Universität Gesamthochschule Kassel Wissen-schaftler und Industrievertreter, die am Thema Ionen-Lithografie im MEDEA-Projekt zusammenarbeiten. MEDEA (Micro-Electronics Development for European Applications) steht für das EUREKA-Projekt EU 1535 in dem zukunftsorientierte Forschung und Entwicklung betrieben wird, um die Wettbewerbsfähigkeit von Europas High-Tech-Industrie für das nächste Jahrtausend zu sichern. Dabei steht die Silizium-Submikro-Metertechnologie in der Mikroelektronik im Vordergrund.
In Kassel trifft sich eine Arbeitsgruppe, in der amerikanische, europäische und japanische Wissenschaftler und Mikroprozessor-Unternehmen kooperieren.
Merkmale dieser Pressemitteilung:
Informationstechnik, Mathematik, Physik / Astronomie
überregional
Forschungsprojekte
Deutsch
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